As it currently stands, this question is not a good fit for our Q&A format. We expect answers to be supported by facts, references, or expertise, but this question will likely solicit debate, arguments, polling, or extended discussion. If you feel that this question can be improved and possibly reopened, visit the help center作为指导。
                            
                        
                    
                
                                7年前关闭。
            
                    
我正在为开发工作流程绘图开发eclipse插件。
现在我必须了解eclipse plugin的体系结构。我想了解GEF,EMF和GMF之间的差异/关系
到目前为止,最新的技术是什么?我可以从哪里获得理解所需的材料?

最佳答案

EMF-Eclipse Modeling Framework-为您提供工具来帮助您创建模型。基本思想是使用ecore定义域模型,然后使用该模型可以为该模型生成大量代码:域中每个实体的java类,具有getters / setter方法,侦听功能以及许多其他优点。
GEF-图形编辑框架-是一个框架,用于使用MVC模式在Eclipse中创建可视编辑器。它建立在draw2d之上,draw2d是SWT之上的“轻量”绘图框架。 GEF不需要使用EMF作为其模型,您可以使用任何喜欢的模型,但是由于EMF生成通常需要执行MVC的代码,因此非常有用。
GMF-图形建模框架-是建立在EMF和GEF之上的框架。基本上,您可以创建域模型和视图模型,而GMF会生成编辑器的所有代码。


过去一年中,我与GEF和EMF合作取得了不错的成绩。我尝试了几周与GMF合作,但无法理解那里的工作方式-学习曲线非常陡峭。我写了一组tutorials on GEF,并邀请您签出它们。

10-06 02:41